六方格子状に配置された炭素原子の単層。 原子1個分の厚さ。質量の何分の一でも鋼鉄よりも強度があります。 銅よりも導電性が高い。どの天然素材よりも熱効率が高い。 透明。フレキシブル。あらゆるガスを透過しません。 L4 ファクトリー 3 ライン 3A で小惑星由来の炭素から製造 原材料費ゼロで。 地球の顧客は 21 か月目から FOB 地球周回軌道に乗って利用できます。
グラフェンは、sp² ハイブリッド形成における炭素の単一原子層です - 各炭素原子 2 次元に広がる繰り返し六角形パターンで 3 つの隣接するものと結合します。 それは同時に最も薄く、最も強く、最も導電性があり、 これまで測定された中で最も熱伝導性の高い素材です。 これらのプロパティは互いにトレードオフせず、同じシート内に共存します。 なぜなら、それらはすべて同じ基礎となる原子幾何学から生じるからです。 L4 では、原料コストゼロで小惑星炭素からグラフェンが製造されます。 生産量の唯一の制限は、Factory 3 のスループットです。
グラフェンは、同じ CVD プロセスである化学蒸着によって L4 で生成されます。 ダイヤモンド基板の製造に使用され、二次元 sp² 成長に適合します。 原料はサバティエ反応を介して小惑星炭素から得られるメタンです。 エネルギー源は 239.4 MW のミラー アレイです。 原材料費：ゼロ。エネルギーコスト: ゼロ。生産は次のとおりです。 Factory 3 Line 3A スループット — 工場の拡大に応じて拡張されます。
グラフェンは、Speculāris プログラム全体の基礎となる素材です。 すべての DRAD チップにはグラフェン FET 層が含まれています。 システム内のすべてのバッテリーにはグラフェン電極が使用されています。 すべての Tesla バルブにはグラフェン パネルが使用されています。 プログラムはそれなしでは機能しません。
すべてのグラフェン製品は、L4 Factory 3 Line 3A で小惑星由来の炭素から製造されています。 L4到着の月21日からFOB地球周回軌道に納入。 顧客のEEZ座標への海洋落下が利用可能 - 同じ配送メカニズム レアアースおよびDRADチップ製品として。
| 製品 | 仕様 | 利用可能なサイズ | アプリケーション | 注意事項 |
|---|---|---|---|---|
グラフェン単層シート GR-ML-シート |
単一原子層。 CVD成長。ゼロ G L4 生産 — 地上の CVD よりも欠陥密度が低い。ターゲット基板に転写するか、サポートフレーム上に自立させます。 | 200mm ウェハー · 300mm ウェハー · 500×500mm パネル · 1×1m パネル · ご要望に応じてカスタム形状 | 半導体の研究。バリア膜。センサーの活性層。光学窓（透過率97.7%）。基礎的な材料研究。 | 基板または自立型を指定してください。自立型の注文用にサポート フレームが含まれています。 |
グラフェン二層シート GR-BL-シート |
2 つの結合したグラフェン層。単層とは異なり、ゲート電圧によってバンドギャップを調整可能。 AB スタック (Bernal) 構成とツイストアングル構成の両方が利用可能です。 | 200mmウェハ・300mmウェハ・カスタムパネルサイズ | バンドギャップ調整可能なトランジスタの研究。太陽光発電活性層。マジックアングル超電導研究（ツイスト角1.1°）。 | ご注文時にご指定いただくツイスト角度は±0.1°です。 AB スタックがデフォルトです。 |
グラフェンの数層 (3 ～ 10 層) GR-FLシート |
3～10層のグラフェン層。バルクグラファイトの特性に迫る。単層よりも機械的強度が高い。注文時に層数をご指定ください。 | 300mmウェハー・500×500mmパネル・1×1mパネル・ロールフォーマット（幅500mm、カスタム長さ） | 構造複合補強材。大電流電極ベース層。サーマルインターフェースマテリアル。 EMIシールド。 | 層数はパネル領域全体で均一 ±1 層です。 |
グラフェンPCB基板 GR-PCB-SUB |
セラミックキャリア上の数層グラフェン。PCB トレースリソグラフィーにすぐに使用できます。熱伝導率 5,300 W/m・K 横方向散逸。標準的な PCB 製造プロセスと互換性があります。 | 標準PCBパネルサイズ：305×457mm・406×457mm・カスタム最大600×600mm | 高出力エレクトロニクス PCB。レーダーおよびフェーズド アレイ ボード。核計装。衛星アビオニクスボード。 FR4 機能を超える熱管理を必要とするアプリケーション。 | お客様指定のセラミックキャリア材質。従来の工法によるビアホール加工。 |
グラフェン/HND電極シート GR-HND-エレック |
水素化ナノ結晶ダイヤモンド表面処理を施したグラフェン。負の電子親和力。スーパーキャパシタおよびバッテリー用途向けの強化された充放電特性。ソリッドステート互換 — 液体電解質は必要ありません。 | 100×100mmセルフォーマット・200×200mm・カスタム電極形状 | スーパーキャパシタの電極ペア。全固体電池セル。放射線環境における高周波電力バッファー。宇宙用電力システム。 | HND 処理の深さを nm で指定します。供給されるセルペアは、静電容量が 2% 以内に一致しています。 |
酸化グラフェンシート GR-OX-シート |
酸素官能基を制御したグラフェン。親水性 — 水分散性。酸化度により層間距離を調整可能。還元酸化グラフェン (rGO) も利用可能です。 | ドライシート：200×200mm・500×500mm。水分散液：100mL・1L・10L（濃度mg/mLを指定） | 複合材料添加剤。膜の作製。ろ過（水の浄化、脱塩）。生物医学的センシング。インク配合。 | C:O比は注文時に指定します。 rGO の還元度は酸素除去率 (%) として指定されます。 |
グラフェンアーマーパネル GR-ARMOR-PNL |
構造裏地上の多層グラフェン複合パネル。鋼鉄質量の何分の１かでの弾道性能。鋼の200倍の引張強さ。必要な保護レベルに合わせて厚さを設定可能。 | 300×300mm・500×500mm・1×1m・カスタム形状。厚さ：2mm・5mm・10mm・カスタム | 航空宇宙用構造パネル。衛星微小隕石の遮蔽。国防軍の個人および車両の保護。衝撃の大きい産業環境。 | 指定されたバッキング材料 (カーボンファイバー、セラミック、金属マトリックス)。お客様の施設で弾道認証テストが可能です。 |
グラフェンサーマルインターフェースマテリアル GR-ティム |
チップとヒートシンクの熱インターフェイス用の数層グラフェン ペーストまたはフィルム。 5,300 W/m・Kの面内導電率。極薄のボンドラインにより熱抵抗を最小限に抑えます。 | フィルム：50×50mm・100×100mm・200mmウエハー。ペースト：10mL・100mLシリンジ | DRADチップパッケージ。高出力RFアンプモジュール。レーザーダイオードの熱管理。原子炉計装冷却。 | ボンドライン厚さ：5～50μmフィルム。ペースト粘度調整可能。真空対応配合標準品。 |
グラフェンガスバリア膜 GR-MEM-ガス |
多孔質支持構造上の単層グラフェン。あらゆるガスを元の状態で完全に遮断します。指定どおりの選択的なガス輸送のために機能化された細孔密度とサイズ。 | 25mmディスク・47mmディスク・100mmディスク・カスタムフレームマウント | He-3/He-4 分離 (極低温を補完)。水素の精製。同位体分離の研究。超高真空シール窓。大気センサー窓。 | 細孔機能化化学は注文時に指定されます。サポート材料: アルミナ、窒化ケイ素、またはポリマーメッシュ。 |
配送: すべての製品はFOB地球軌道上にあります。大気圏再突入カプセルオーシャンがお客様のもとへドロップ EEZ 座標が利用可能 — レアアースおよび DRAD チップ製品と同じ配送チェーン。 海上自衛隊、海上保安庁、またはお客様の船舶の回収。 最小注文数: 最小値なし - 単一ウェーハを受け入れます。 リードタイム: 工場 3 ライン 3A の生産スケジュールに応じて — 現在の空き状況についてはお問い合わせください。
グラフェンは、粘着テープを使用してグラファイトから層を手動で剥がすことによって最初に分離されました。 2010年にノーベル物理学賞を受賞しました。 その後15年間、ミリグラム単位で生産され続けた。 研究用途では、実験室規模で莫大な費用がかかります。 Speculāris は L4 の小惑星炭素から生成します 原料コストゼロで十分な量を供給 地球上のあらゆる産業顧客。
ノーベル賞を受賞した素材がバルク工業製品に 最も近い人類から1億5000万キロメートル離れた場所で製造され、 46億年間小惑星帯に漂っている炭素から、 加工してくれる工場を待っています。 工場はここにあります。グラフェンの準備ができました。
Speculāris — 最先端。
すべてのグラフェン製品は、L4 到着の 21 か月目から利用可能になります。仕様、お見積り、納期についてはお問い合わせください。